Termelésbe áll a Samsung 7LPP EUV gyártástechnológiája

A TSMC mellett a Samsung is fontos mérföldkőhöz érkezett az EUV alapú gyártástechnológiák terén.

Termelésbe áll a Samsung 7LPP EUV gyártástechnológiája

A Samsung fejlesztőcsapata komoly mérföldkőhöz ért, ugyanis elkészültek az EUV technológiára támaszkodó 7 nanométeres Low Power Plus (7LPP) gyártástechnológia fejlesztésével, és a gyártósorok felkészítésével, így végre megindulhatott a köré épülő szilíciumostyák termelése. A legújabb node gyümölcseit több területen is kamatoztatni lehet, így 5G modemek, Mesterséges Intelligenciát használó lapkák, üzleti platformokba és adatközpontokba szánt termékek, IoT eszközök, autóipari vezérlők és hálózati vezérlők egyaránt készülhetnek vele.

Az EUV technológia számos előnyt használ a ma széles körben alkalmazott argon flourid (ArF) immerziós technológiához képest. Egyrészt az EUV esetében 13,5nm-es hullámhosszú fényt használnak a mintázáshoz, ami jelentős előrelépés a 193 nm-es hullámhosszú megoldásokhoz képest. Ráadásul az EUV segítségével egyszerűbben és gyorsabban történhet a mintázás. Míg az ArF esetében egy adott lapkaréteg elkészítéséhez négy maszkra van szükség, addig az EUV esetében ugyanazt a komplexitást egy réteg segítségével is el lehet érni. Éppen ezért a 7LPP gyártástechnológia használatakor az adott lapka legyártásához szükséges maszkok száma 20%-kal alacsonyabb lesz, mint amit az ArF esetében megszokhattunk, ez pedig gyorsabb és költséghatékonyabb termelést eredményez. Persze az EUV bevetéséhez sokat kellett költenie a gyártónak fejlesztésre és új eszközök beszerzésére, de idővel egészen biztosan megtérül a befektetés. Az EUV levilágítást egyébként egyelőre csak bizonyos lapkarétegekhez használják – valahogy úgy, ahogy a TSMC is.

Galéria megnyitása

Az EUV litográfia által kínált előnyök segítenek a lapkák teljesítményének növelésében, ugyanakkor az energiahatékonyság és a helykihasználás is javul, a szilícium ostya mintázása pedig egyszerűbbé és gyorsabbá válik. A 10 nm FinFET alapú lapkákhoz képest a 7LPP technológiával készülő lapkák gyártása sokkal kevésbé lesz komplex, hála a kevesebb réteg alkalmazásának, ami a kihozatali arányra is jótékony hatást gyakorolhat. Ezzel együtt a helykihasználás azonos komplexitás mellett akár 40%-kal javulhat, a teljesítmény azonos fogyasztás és azonos komplexitás mellett 20%-kal emelkedhet, a fogyasztás pedig azonos órajel és azonos komplexitás mellett akár 50%-kal is csökkenhet.

Galéria megnyitása

A 7LPP EUV lapkák Dél-Koreában, Hwaseong városában, a Fab S3-as üzemben készülnek, ahol az ASML Twinscan NXE:3400B EUVL típusú „gyártósorok” egyenként maximum 1500 szilícium ostyával végeznek egy nap alatt. A Samsung egyelőre nem árulta el, mely megrendelők férhetnek hozzá leggyorsabban az új gyártástechnológiához, az viszont biztos, hogy a Samsung termékei elsőként alkalmazzák majd azt. Ebből kiindulva 2019 folyamán egészen biztosan megérkeznek az első olyan felsőkategóriás Samsung okostelefonok, amelyek már 7 nm-es csíkszélességgel készülő SoC egységet tartalmaznak. Később a Qualcomm Snapdragon 5G mobil lapkakészletei is profitálhatnak a 7LPP gyártástechnológiából.

Galéria megnyitása

A Samsung EUV kapacitása idővel bővülni fog, ugyanis most még korlátozott számban állnak rendelkezésre ASML gyártmányú eszközök, de mivel úgyis csak bizonyos lapkarétegek készülnek EUV gyártástechnológiával, így ez most még nem probléma – a többi réteg a régi, DUV (deep ultraviolet) alapú eszközökön készül. A vállalat éppen egy új EUV gyártósor építésére készül, amely már alapjaiban az EUV gyártástechnológiához készül. Ez az üzem 4,615 milliárd dollárba kerül és 2019 folyamán készülhet el, 2020-ban pedig már tömegtermelésbe is állhat.

Az EUV egyébként komoly utat tett meg idáig, ugyanis 33 éve, 1985-ben kezdődött a fejlesztése, amelynek során új fényforrásokat, új léptető és szkennelő üzemegységeket, új kemikáliákat, új maszkrendszert és számos egyéb fontos komponenst kellett kifejleszteni, amelyekhez sok-sok évre volt szükség. A munka gyümölcse most már beérni látszik, ugyanis egyre több piaci szereplő kezdi meg az EUV alkalmazását, igaz, eleinte még csak bizonyos, többnyire kevésbé komplex lapkarétegekhez használják, hogy az első lépések megtétele könnyebb legyen, a gyártás során pedig könnyedén orvosolni tudják az esetlegesen felmerülő kihívásokat.

Neked ajánljuk

Kiemelt
-{{ product.discountDiff|formatPriceWithCode }}
{{ discountPercent(product) }}
Új
Teszteltük
{{ product.commentCount }}
{{ voucherAdditionalProduct.originalPrice|formatPrice }} Ft
Ajándékutalvány
0% THM
{{ product.displayName }}
nem elérhető
{{ product.originalPrice|formatPriceWithCode }}
{{ product.grossPrice|formatPriceWithCode }}
{{ product.grossPrice|formatPriceWithCode }}
{{ product.displayName }}

Tesztek

{{ i }}
{{ totalTranslation }}
Sorrend

Szólj hozzá!

A komment írásához előbb jelentkezz be!
{{ orderNumber }}
{{ showMoreLabelTranslation }}
A komment írásához előbb jelentkezz be!
Még nem érkeztek hozzászólások ehhez a cikkhez!
Még nem érkeztek hozzászólások ehhez a cikkhez!
Segíts másoknak, mondd el, mit gondolsz a cikkről.

Kapcsolódó cikkek

Magazin címlap arrow_forward