A kínai kormányzat folyamatosan dolgozik azon, hogy az ország félvezetőipari bérgyártói hálózata kellően versenyképes legyen, illetve azon is, hogy az AI-láz tortájából kellően vastag szeletet kanyaríthasson ki magának Kína, főként az országon belüli igények kielégítésére koncentrálva.
A jókora állami támogatásoknak köszönhetően a kínai félvezetőipar nagy fejlődést produkált az elmúlt évek folyamán, mára pedig már odáig jutottak, hogy saját immerziós DUV litográfiai gyártóeszközöket is gyártanak. A The Information munkatársai szerint az iparági pletykálók, akik nagyon közel ülnek a tűzhöz, azaz rendkívül jól rálátnak a folyamatok alakulására, nevük elhallgatását kérve arról számoltak be, a kínai DUV eszközökből idén már 5 készülhet el, míg 2027 folyamán további 20 ilyen gépet gyárthatnak le, amelyek segíteni fognak abban, hogy az ország félvezetőipara alternatív forrásokra támaszkodhasson, már ami a saját fejlesztésű és saját gyártású eszközöket illeti.
Noha a szóban forgó, DUV alapú immerziós litográfiai eszközök nagyrészt országon belül kifejlesztett és legyártott alkatrészekből állnak, néhány fontos komponens beszerzéséhez még mindig importra szorul az ország: bizonyos alkatrészek, amelyek kritikus fontosságúak, Japánból érkeznek. Az importra való várás és a helyi beszállítók késései miatt a tervezettnél kevesebb gyártóeszköz készülhet el idén, de a sorozatgyártás legalább elindulhat.
Az új fejlesztés mögött néhány kevésbé ismert kínai vállalat bújik meg, mint például a Shanghai Yiliagsheng Technology, amelynek eszközeit egy ideje már teszteli a nagy kínai félvezetőipari bérgyártó, az SMIC. A projekt vezetéséért a Shanghai Aishengna Electronic Technology Group felel, ami egy állami tulajdonban lévő vállalat, és ami különböző kínai litográfiai startupok csapatait egyesíti.
Az új immerziós litográfiai gyártóeszközök megrendelői között számos nagy kínai vállalat szerepel, mint például az SMIC, a Hua Hong Semiconductor, illetve a CXMT is. A DUV alapú immerziós litográfiai gyártóeszközök alap esetben 28 nm-es csíkszélességgel dolgoznak, ha egyszer mintázzák velük az adott szilícium-ostya felületét, de többszörös mintázás segítségével akár 7 nm-es csíkszélességig is lehet őket használni, igaz, ekkor a gyártási folyamat komplexebbé válik, a hibalehetőségek száma növekszik, a kihozatali arány pedig ennek arányában csökken.
A kínaiak számára mégis fontos, hogy litográfiai eszközök terén is egyre inkább függetlenedjenek a külsős forrásoktól, hiszen ha további szigorításokat vezet be az amerikai kormányzat, akkor azokhoz az eszközökhöz sem férhetnek majd hozzá, amelyek jelenleg engedélyezve vannak. Más kérdés, hogy kerülőúton elméletileg szintén be tudják szerezni a gépeket, de a műszaki támogatás és a szervizháttér ebben az esetben nem lesz elérhető, ugyanis ezek is korlátozás hatálya alá esnek.
A fentiek miatt az ASML részvényárfolyama hirtelen 8%-ot esett, majd később további 1,6%-kal csökkent, valamint az iparági szereplőket is sokkolta az értesülés. Az elemzők úgy látják, egyelőre nem kell tartani a kínai DUV alapú immerziós litográfiai eszközöktől, azok ugyanis messze lesznek minőség és kihozatali arány terén a piacvezető ASML termékeitől. Az ASML egyébként még mindig szállít gyártóeszközöket Kínába, de árbevétele a tavalyi 33% helyett már csak 20%-ban származhat Kínából.
Az AI Futures Project elemzőinek júniusi véleménye szerint a kínai DUV alapú immerziós litográfiai eszközök kereskedelmi nagyságrendben majd csak 2030 közepén lesznek bevethetőek, teljesítmény és minőség terén pedig le lesznek maradva az ASML termékeitől. EUV-fronton még ennél is nagyobb a lemaradás, évekre lesz szükség, mire kellően ütőképes kínai gyártóeszközök készülnek, igaz, a tavaly decemberi hírek szerint egy működő EUV prototípussal már rendelkeznek a kínaiak, azaz próbálják minél hamarabb leküzdeni a lemaradásaikat, de ez nem egyszerű, nem rövid és nem is olcsó feladat.
