A Micron több üzemmel is rendelkezik világszerte, így az amerikai mellett japán, szingapúri, dél-koreai, illetve tajvani gyárak is szerepelnek a repertoárjában. Ezen üzemek egy részét nem maga a vállalat építette, hanem más végek felvásárlása során jutott hozzájuk, ezért is helyezkednek el ezek az üzemek ennyire szétszórva.
A vállalat még a Computex 2022 alkalmával vázolta fel távolabbi terveit, amelyek között szerepel, hogy a tajvani Taichung környékén elhelyezkedő három üzeme közül az egyiket átállítják az EUV levilágítás használatára az idei év folyamán. Ez a lépés gyakorlatilag az 1-gamma névre keresztelt gyártástechnológia bevezetésének részeként zajlik majd, amit elsősorban a DRAM chipek gyártásához vethetnek be. Korábban úgy tűnt, hogy ez a node egy kísérleti gyártástechnológia lesz, amely segíthet a vállalatnak felkészülni arra, hogy szélesebb körben is beemelje a gyártásba az EUV levilágítást, mint új technológiát. Jelenleg a DRAM chipek az 1-alpha node használata mellett készülnek a vállalat üzemeiben, ám jövőre az 1-beta is tömegtermelésbe állhat a tajvani gyárakban.
Az 1-alpha gyártástechnológia a Micron szerint a korábbi 1Z node-hoz képest memóriasűrűség terén igen komoly, 40%-os előrelépést hozott. Az 1-alpha gyártástechnológia pontos csíkszélességét nem árulta el a vállalat, az iparági információk alapján ez valahol 11 és 13 nm között helyezkedhet el. Az 1-beta ennek megfelelően jó eséllyel már a 10 nm alatti szintet ostromolhatja – az persze kérdéses, hogy az 1-alpha 10 nm alatt tart-e már, de erre sajnos nincs hivatalos válasz. Az 1-alpha egyébként természetesen még DUV levilágítást használ.
A Micron útiterve alapján hosszabb távon egy 1-delta névre keresztelt gyártástechnológia is készül, amiről azt lehetett tudni, hogy az első EUV gyártástechnológiája lesz a cégnek, ám úgy tűnik, most az 1-gamma töltheti be ezt a szerepet.
Erősen valószínű, hogy idővel a Micron többi üzemében is megindul az EUV technológia alkalmazása, ám azt is érdemes kiemelni, hogy a DRAM lapkák eddig nem igazán profitáltak sokat a node-váltásokból, legalábbis annyit nem, mint az egyéb, bonyolultabb dizájnok, így érdekes lesz látni, a következő csíkszélesség-váltások és az EUV technológia bevetése milyen előnyökkel kecsegtet majd.
