A Huawei elég nehéz helyzetbe került az Amerikai Egyesült Államok és Kína között húzódó kereskedelmi háború miatt, így a vállalat számára kiemelten fontossá vált, hogy lehetőség szerint minél előbb függetlenítse magát az amerikai technológiák használatától. Erre kisebb példákat már láthattunk – például saját alkalmazás-áruház indítását –, ám bőven van még tennivaló, például gyártástechnológiák terén. Hogy a gyártóeszközök fejlesztése a kereskedelmi háborút megelőzően indult-e? Abszolút nincs kizárva, hiszen az efféle munka elég sok időt igényel, és a tervezőasztalon megálmodott megoldásokat még a valóságba is át kell ültetni, ami szintén rengeteg munkát igényel.
A folyamat már elindult, ugyanis a Huawei nemrégiben szabadalmat adott be egy EUV alapú litográfiai szkennerre, ami óriási jelentőséggel bírhat nemcsak a Huawei, hanem a kínai techipar számára is, hiszen egy efféle eszközzel megnyílhat az út a hazai gyártású, 7 nm-esnél fejlettebb csíkszélességet használó gyártástechnológiák előtt. Azt persze nagyon fontos kihangsúlyozni, hogy a szabadalom beadása és a konkrét gyártóeszköz megépítése között akár évek is eltelhetnek.
Maga a szabadalom mindent tartalmaz, amire egy EUV levilágítást alkalmazó modern gyártóeszköz esetében szükség lehet, beleértve a 13,5 nm-es hullámhosszon dolgozó EUV fényforrást, a tükröket, a litográfiai rendszert, illetve az egyéb összetevőket is. Noha ezek elengedhetetlenek az eszköz megépítéséhez, a szabadalmi bejegyzés még nem jelenti azt, hogy a termék hamar el is készül, sőt, azt sem teljesen biztos, hogy egyáltalán elkészül. Utóbbira remek példa az SMIC által tervezett gyártóeszköz, amelyhez szintén óriási reményeket fűztek, ám a Wassenaari egyezmény (egy 40 ország részvételével létrejött fegyverzetkorlátozási keretmegállapodás) miatt elbukott a terv, ugyanis a gyártóeszköz építéséhez használható technológiákat nem vehetik igénybe a kínaiak. Az említett egyezmény egyéb területeken is problémákat okoz a kínaiak számára.
Mivel az amerikai korlátozások gyakorlatilag ellehetetlenítették a kínai chipgyártást, már ami a modern technológiák alkalmazását illeti, ezeket a technológiákat házon belül kell kifejleszteni, ehhez pedig rengeteg munkára és még annál is több pénzre van szükség. A Huawei törekvései lassan gyümölcsöt érlelhetnek, ami a kínai chipgyártás számára rendkívül fontos és előnyös lehet.
Jelenleg az EUV levilágítással dolgozó eszközöket a holland ASML szállítja, ám a siker érdekében 10 évnél is hosszabb fejlesztési időszakra volt szükség, valamint sok-sok pénzügyi támogatásra is, amit az Intel, a Samsung és a TSMC adott meg. Jelenleg a piacon csak néhány nagy félvezetőipari gyártó használja az EUV levilágítást aktív módon, köztük van a TSMC, a Samsung, illetve az SK Hynic is, az Intel viszont még nem állította tömeggyártásba a technológiát.
Hogy a Huawei EUV levilágítást használó litográfiai szkennerei mikorra készülnek el? Ez egyelőre nehéz kérdés, ugyanis a szabadalom csak egy dolog, a konkrét gépet meg is kell építeni, illetve szükség van egy csomó egyéb technológia és összetevő kifejlesztésére is, amelyek nélkülözhetetlenek a gyártási folyamat során.
