Korunk csodaanyaga, a grafén számtalan kedvező tulajdonsággal rendelkezik: hajlékony, strapabíró és kiváló vezető. Az egyetlen probléma vele, hogy meglehetősen nehéz gyártani, így a tömeges előállítás egyelőre nem megoldható. Ez azonban hamarosan megváltozhat, egy dél-koreai kutatócsoport ugyanis olyan szén nanofilmeket hozott létre polimerből, amelyekben nem bukkannak fel a grafén tömeges előállítására tett kísérletek során gyakran jelentkező hibák, tulajdonságaikban viszont szinte megegyeznek a csodaanyaggal.
Magas minőségű grafén előállítására elsősorban a kémiai lecsapatást, vagyis a CVD-technológiát alkalmazzák. Ennek során egy katalizátorként működő fém filmre megfelelő összetételű gázokat permeteznek, és ezen fog létrejönni a kész grafénréteg. Az eljárás hátránya, hogy az elkészült, szénatomok egyetlen rétegéből álló filmeket le kell választani arról a felületről, amelyeken gyártásuk megtörtént, majd áthelyezni rendeltetési helyükre. Az átemelés során gyakran jelentősen romlik a végtermék minősége, mivel gyűrődések, szakadások jelenhetnek meg a felületen.
A dél-koreai kutatók gyártási eljárása két lépésből áll, az előző módszer nyolc fázisa helyett. Nagyon leegyszerűsítve arról van szó, hogy a szakértők forgótárcsás bevonatképzéssel egy különleges polimer oldattal vonnak be egy kvarclapot, majd 1200 °C-ra hevítetik az egészet. A folyamat végén átlátszó, jó vezetőképességű szén nanofilmet kapnak, amely szinte minden tulajdonságában megegyezik a grafénnal, és úgy ahogy van, a kvarc alappal együtt felhasználható napelemek átlátszó elektródájaként vagy félvezető chipek részeként.
