A TSMC szépen csendben új gyártástechnológiai opciókat jelentett be megrendelői számára, amelyek teljesítményre optimalizálva érkeznek, így több területen is nagy hasznukat vehetik. A megrendelő döntésétől függően azonos fogyasztás mellett nagyobb teljesítményre, vagy éppen azonos órajel mellett kisebb fogyasztásra számíthat, mint az „alap” N7 és N5 gyártástechnológiáknál, ami mindenképpen jól hangzik.
A változás a DUV alapú 7 nm-es (N7), illetve az EUV alapú 5 nm-es (N5) gyártástechnológiákat érinti, az új lehetőségekről pedig a 2019 VLSI Symposium alkalmával esett szó, Japánban. Az új gyártástechnológiákat egyébként „P” jelöléssel különböztetik az eddigi megoldásoktól.
Az új, teljesítményre optimalizált gyártástechnológiák esetében a FEOL (Front-end-of-line), illetve a MOL (Middle-end-of-line) kaphatott némi optimalizációt, illetve finomhangolást, ami érezhető előrelépést hozott. Az N7P gyártástechnológia esetében azonos fogyasztás mellett 7%-kal nagyobb teljesítményre van kilátás, de ha a fogyasztás csökkentése a fő szempont, akkor azonos órajel mellett 10%-kal lehet mérsékelni a fogyasztást. Az N7P az N7-hez képest nem hoz tranzisztorsűrűség-növekedést, így aki erre vágyik, az EUV alapú N7+ és N6 gyártástechnológiát kell választania, azok ugyanis 18-20% körüli előrelépést hoz ezen a téren.
Az 5 nm-es csíkszélességgel dolgozó N5 gyártástechnológia esetében szintén elérhetővé vált a teljesítményre optimalizált kiadás, ami az N5P nevet viseli. Ennél ugyanazokat a részeket módosították, mint a fent említett N7P esetében, így azonos fogyasztás mellett 7%-os teljesítménynövekedésre van kilátás, de ha a fogyasztás élvez prioritást, akkor azonos órajel mellett 15%-kal alacsonyabb fogyasztás elérésére is van mód.
A két új gyártástechnológia már elérhető a megrendelők számára.
