A kínai félvezetőipar kifejezetten nehéz helyzetben van jelenleg a nyugati szankciók miatt, ugyanis a kínai gyártók nem férnek hozzá a fejlettebb gyártóeszközökhöz, ez pedig erősen behatárolja a fejlődést, hiszen így a fejlettebb chipek gyártása előtt megfelelő gyártóeszközöket is ki kell fejleszteni, ami nem kevés időt és pénzt emészt fel. Az ország legfejlettebb és legsikeresebb félvezetőipari eszközgyártója, az SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment) természetesen mindent megtesz azért, hogy a fejlettebb gyártástechnológiák alkalmazásához szükséges gyártósori eszközöket minél hatékonyabban és minél gyorsabban kifejleszthesse és le is szállíthassa. A vállalat korábban azt tervezte, hogy még idén elkészül az első olyan litográfiai szkenner, ami már 28 nm-es osztályú gyártástechnológiák használatát is lehetővé teszi, nemrégiben pedig megerősítette a vállalat még érvényben vannak a tervek és le is fogják szállítani az új eszközt még idén.
Az új levilágító készülék, ami a szilíciumostya-gyártás nélkülözhetetlen kelléke, az SSA/800-10W típusjelzést viseli és igazi technológiai áttörésnek tekinthető, hiszen jelenleg a legfejlettebb kínai litográfiai szkennerek csak a 90 nm-es, illetve ennél régebbi gyártástechnológiák használatát teszik lehetővé, ilyeneket maga az SMEE is gyárt. Az új eszköz jóvoltából idővel egy sornyi kiforrott gyártástechnológia használhatóvá válik az országon belüli félvezetőgyártáshoz, ami kifejezetten fontos annak a tervnek az eléréséhez, ami alapján minél hamarabb, minél nagyobb fokú függetlenséget szeretnének elérni, már ami a nyugati technológiák alkalmazását illeti. Noha az eredmény igencsak figyelemreméltó, az még erősen kérdéses, hogy az SMEE képes lesz-e akkora mennyiségben legyártani az új litográfiai szkennereket, amekkora számban ezekre éppen szükség van a különböző üzemek esetében. Jelenleg nincs túl sok választása a kínai félvezetőiparnak, ha boldogulni akar, csak az, hogy házon belül fejlesztik ki a modernebb csíkszélességeket és a hozzájuk szükséges gyártóeszközöket, a modern nyugati gyártástechnológiákhoz ugyanis a szankciók miatt egyszerűen nem férnek hozzá. Ez nemcsak az SSD-k és a memóriamodulok fejlesztését és gyártását teszi nehezebbé, de a processzorok és a videokártyák fejlesztését, illetve gyártásával kapcsolatos lehetőségeket is erősen behatárolja.
Az aktuális szabályozás értelmében az amerikai kormányzat tiltja az olyan eszközök és technológiák elérését a kínai félvezetőipari szereplők számára, amelyekkel 14 vagy 16 nm-nél fejlettebb gyártástechnológiával készülhetnek nem-planáris logikai áramkörök, illetve a 127-nél több cellaréteget alkalmazó 3D NAND Flash chipek gyártását segítő technológiák is eszközök is tiltólistán vannak, míg a DRAM chipek esetében a 18 nm-nél fejlettebb gyártástechnológia alkalmazását lehetetlenítették el. A korlátozásokhoz Hollandia, Japán, illetve Tajvan is csatlakozott, így ezekről a területekről sem juthatnak modern gyártóeszközökhöz és gyártástechnológiákhoz a kínaiak, ami az olyan nagy kínai gyártók számára, mint amilyen az SMIC és a YMTC, eléggé nagy érvágást jelent. A korlátozások miatt az SMIC nem használhatja a 14 nm-es és 12 nm-es, valamint a 7 nm-es gyártástechnológiát, míg a YMTC esetébena 128 és 232 cellaréteggel rendelkező 3D NAND Flash chipek gyártását lehetetlenítették el. Pedig a YMTC termékeire korábban már az Apple is felfigyelt, de a kormányzati szankciók miatt végül nem kötöttek üzletet a kínaiakkal.
Kína most éppen ezért rá van szorulva arra, hogy házon belül fejlessze ki a fejlettebb csíkszélességek alkalmazásához szükséges gyártóeszközöket, így például a litográfiai szkennereket is. Az SMEE törekvései az SSA/800-10W formájában beérni látszanak, ám az egyelőre rejtély, elegendő mennyiségben készülnek-e majd ezek a gyártóeszközök. Amennyiben igen, akkor is időre lesz szükség, míg a gyártók integrálni tudják az új eszköz a gyártósori folyamatokba, de így legalább már derenghet némi fény az alagút végén.
