Kína régóta arra törekszik, hogy a félvezetőgyártás oroszlánrészét országon belül oldhassa meg, lehetőleg minimális import-kitettséggel, ami az elmúlt évek eseményei alapján érthető és logikus törekvésnek tűnik. Ennek érdekében óriási támogatásokat kap a félvezetőpiac: most például azt támogatja a helyi vezetés, hogy az SMIC felépíthesse az ország eddigi legnagyobb félvezetőgyártó üzemét, ahol 300 milliméteres átmérőjű szilíciumostyák készülhetnek majd.
Az aktuális számok alapján az új üzem 8,87 milliárd dolláros befektetés keretén belül épülhet meg Sanghaj mellett, a Lin-Gang Pilot Free Trade Zone területén. Ebben a gyárban nem kevesebb, mint 100 000 szilíciumostya gyártását indíthatják el havi szinten, ám gyártástechnológia terén nem a 10 nm körüli, illetve az alatti, hanem kiforrott, régi csíkszélességek alkalmazása kapja a főszerepet, vagyis 28 nm-es, illetve ennél régebbi gyártástechnológiákat alkalmazhat az üzem.
Ez persze nem probléma, hiszen rengeteg olyan chipre van szükség a piacon, amelyek gyártásához a költséghatékonyabb régi csíkszélességek is bőségesen megfelelnek. Ilyenek például a kijelző-vezérlők, amelyekből éppen hiány van, de számos mikrovezérlő, hálózati vezérlő, valamint még a WiFi vezérlők is kamatoztathatják az említett gyártástechnológiában rejlő lehetőségeket. A felsorolt chipek viszonylag hosszú életciklussal rendelkeznek, vagyis, ha a gyár felépül, még mindig szükség lesz rájuk – a jelenlegi chiphiányos helyzetben szinte minden gyártókapacitás fontossága felértékelődik.
A 8,87 milliárd dolláros üzem várhatóan egy vegyesvállalat tulajdonába kerül majd, amelynek 51%-os tulajdonrészét az SMIC tudhatja magáénak, míg Sanghaj Város Népi Kormánya 25%-os tulajdonrészt szerezhet belőle, a fennmaradó 24%-ot pedig külsős befektetők kaparinthatják meg, akiket még fel is kell kutatni. A vegyesvállalat jegyzett tőkéje várhatóan 5,5 milliárd dollárra rúghat.
Az SMIC helyzete nem egyszerű, ugyanis az Amerikai Egyesült Államok kormányzata által feketelistára tett kínai vállalat nem kaphatja meg a legfrissebb gyártóeszközöket – azokat, amelyek vagy amerikai vállalat műhelyében készültek, vagy pedig amerikai szabadalmakat használnak. Ez a buktató jelentősen lelassította az SMIC 14 nm-es FinFET gyártástechnológiájának bevezetését, valamint a 10 nm-es és a 10 nm alatti csíkszélesség fejlesztését is ellehetetlenítette. Gyakorlatilag ezért fókuszál a vállalat a 28 nm-es, illetve ennél régebbi csíkszélességekre. Ezekhez is szükség van egy amerikai partnerre, aki export licencet kért az Amerikai Egyesült Államok Kereskedelmi Minisztériumától: ha az engedélyt megkapja, az SMIC fel tudja szerelni új üzemeit.
A kínai vállalat idén már bejelentett gyárépítéssel kapcsolatos tervet, akkoriban egy Shenzen melletti üzemről esett szó, ami szintén 300 milliméteres átmérőjű szilícium ostyákat készíthet, építése pedig 2,35 milliárd dollárba kerülhet. Ez a gyáregység már 2022-ben munkába állhat, méghozzá 28 nm-es, illetve ennél régebbi gyártástechnológiák használata mellett, havi szinten pedig maximum 40 000 szilíciumostya gyártása kezdheti meg, miután felfuttatták a termelést.
