A Micron csapata végre készen áll az EUV litográfia bevetésére, ami több szempontból is előnyöket tartogat a DRAM gyártás területén. Az EUV (Extreme Ultra-Violet) levilágítást már a vállalat több riválisa is használja egy ideje, gondoljunk csak a Samsung vagy az SK Hynix aktuális gyártástechnológiáira, de a Micronnál nem siettek az újítás bevetésével, helyette a klasszikus DUV Multi-Patterning technológiából próbálták kihozni a maximumot. A tervek szerint jövőre az EUV litográfia is helyet kap a gyártósorokon, méghozzá az 1-gamma gyártástechnológia esetében, ami 2025-ben állhat tömegtermelésbe, már amennyiben minden a terveknek megfelelően alakul.

Jelenleg a gyártó DRAM chipjei DUV alapon készülnek, az 1α és 1ß node-ok esetében egyaránt az volt a legfőbb szempont, hogy mind költséghatékonyság, mind pedig teljesítmény terén versenyképesek legyenek a köréjük épülő termékek, és ezt igazából sikerült is megvalósítani. Közben az SK Hynix és a Samsung üzemeiben már szolgálatba álltak a drága EUV gépek, amelyek darabonként nagyjából 200 millió dollárba kerülnek, cserébe viszont segítenek a költséghatékonyabb gyártás megvalósításában.

A Micron EUV gyártástechnológiája jelenleg kísérleti termelésben dolgozik, a tesztek jól haladnak, a finomhangolás még folyik, ám úgy tűnik, sikerül majd tartani a tervet, 2025-ben tényleg szolgálatba állhat a vállalat első EUV node-ja, az 1 γ. Az újításnak azért van nagy jelentősége, mert segít a vállalat versenyképességének növelésében, hiszen segítségével olcsóbb és energiahatékonyabb memóriachipeket lehet készteni, hála annak a ténynek, hogy az iparág legkisebb DRAM celláját alkothatják meg. Az egyelőre kérdéses, hogy az új DRAM cella teljesítménye pontosan hogyan alakul majd, de idővel erre is választ kaphatunk. Maga az 1 γ node Japánban, a Hiroshima területén található fejlesztőközpontban született meg.

A vállalat egyébként már egy ideje teszteli az EUV litográfiai technológiával dolgozó ASML NXE EUV gépeit, a munka során olyannyira sikerült optimalizálni a folyamatokat, hogy kihozatali arány és minőség terén az 1α és az 1ß node EUV és nem-EUV alapú verziói között nincs jelentős különbség. A Micron vezetője, Sanjay Mehrotra úgy látja, az új gyártástechnológia remekül halad a cél felé, bevetésére a következő év folyamán sor kerülhet sorozatgyártásban is, ahogy azt korábban tervezték.