A Micron nagyon fontos mérföldkőhöz ért: megindult az első olyan LPDDR5X szabványú memóriachipek tesztpéldányainak gyártása, amelyek már a gyártó 1-gamma gyártástechnológiáját használják, vagyis elsőként kamatoztatják az EUV litográfiában rejlő lehetőségeket. Technikailag persze nem ezek az első 1-gamma alapú Micron DRAM lapkák, a gyártó ugyanis korábban egy 16 Gb-es DDR5-9200 MT/s sebesség elérésére képes lapkát is bemutatott, ami előző generációs társaihoz képest nagyobb teljesítményt és alacsonyabb fogyasztást ígér, de azzal a termékkel kapcsolatban még mindig nem osztottak meg további részleteket.
Az 1-gamma gyártástechnológiát használó LPDDR5X memóriachip, amit a vállalat néhány partnerének már szállít is, meglehetősen impresszív tulajdonságokkal rendelkezik. A 6. generációs 10 nm-es osztályú csíkszélesség köré épülő memórialapka az új gyártástechnológia révén 20%-kal alacsonyabb fogyasztás mellett üzemelhet, miközben 15%-kal magasabb teljesítmény elérésére ad lehetőséget, plusz 30%-kal növeli a bitsűrűséget is. Mindhárom szempont kiemelten fontos, de a bitsűrűség jelentős mértékű növelése különösen jó hír lehet, hiszen ha sikerül elérni az 1-béta csíkszélességhez hasonló kihozatali arányt, akkor az 1-gamma segítségével jelentősen lehet majd növelni a produktivitást, ami idővel a gyártási költségek csökkentését is eredményezheti.
A Micron vezetője, Sanjay Mehrotra ezzel kapcsolatban elmondta, a vállalat 1-gamma node-ja már most remekül áll, hiszen a kihozatali arány felfuttatása nagyobb tempóban történik, mint amit az eddigi rekordernek számító 1-béta gyártástechnológia esetében sikerült elérni. Ebben a negyedévben több fontos mérföldkőhöz is értek az 1-gamma kapcsán, beleértve azt is, hogy leszállították az első 1-gamma alapú LPDDR5-ös memórialapkákat a partnerek számára, akik így elvégezhetik a termékek minősítéséhez szükséges teszteket.
Az sajnos nem derült ki, hogy az EUV levilágítást használó 1-gamma gyártástechnológia esetében pontosan hány réteg készül EUV alapokon. Az 1-gamma természetesen az EUV mellett a klasszikus DUV levilágítást is használja a rétegek mintázása során, ám az eddigi gyakorlat alapján valószínű, hogy az EUV-t ezúttal is csak a bonyolultabb, időigényesen előállítható, többszörös mintázást igénylő rétegeknél vetik be, ezzel ugyanis felgyorsíthatják és egyszerűbbé is tehetik a gyártás folyamatát. Az biztos, hogy az új gyártástechnológia frissített High-K Metal Gate felépítést és újratervezett BEOL (Back-End of Line) áramkört alkalmaz. Az 1-gamma jelenleg csak a vállalat Japánban található üzemeiben készül, ám a későbbiekben kibővíthetik a termelőkapacitást mind Japán, mind pedig Tajvan területén.
A vállalat idővel a teljes memória-portfólióját át kívánja állítani az 1-gamma gyártástechnológia használatára, így a DDR5-ös és az LPDDR5-ös chipek mellett a modern videokártyákra szánt GDDR7-es lapkák, illetve az adatközpontokba fejlesztett termékek is kiaknázhatják a benne rejlő lehetőségeket.
