A TSMC vezetése eléggé nagy bizonytalanságban van azt illetően, hol épüljön fel a vállalat 1,4 nm-es csíkszélességgel dolgozó üzeme, ugyanis az eredetileg kiválasztott területen a helyiek tiltakozása miatt nincs lehetőség a szóban forgó üzem felhúzására. Az eredeti helyszín Taoyuan város lett volna, azon belül is a Longtan Science Park területe, ezt az opciót viszont megtorpedózták a helyi tiltakozók, így most még nincs új döntés az üzem végleges helyével kapcsolatban. Közben a 2 nm-es csíkszélességgel dolgozó gyártástechnológia fejlesztése remekül halad, bevetésére a korábbi terveknek megfelelően időben sor kerülhet, már amennyiben továbbra is minden rendben zajlik.

Az N2-es üzemek közül az első már biztosan Baoshan város területén kap helyet, ami azért ideális választás, hiszen ott található az R1-es kutató-fejlesztő központ is, ahol az N2 gyártástechnológia fejlesztésére koncentrálnak. A második N2-képes üzem ezzel szemben a Southern Taiwan Science Park egyik részében, a Kaohsiung Science Park területén kaphat helyet, méghozzá Kaoshiung város mellett

Az N1.4-es üzem eredeti helyszíne tehát a Longtan Science Park lett volna Taoyuan város közelében, ahol a meglévő üzemegységek mellé szerettek volna felhúzni egy újat. A tervek szerint az üzem már 2026-ban szerkezetkész lehetett volna, majd 2027-ben termelésbe is állhatott volna, már amennyiben a helyiek nem tiltakoznak ellene. Pedig az ellátási lánc, a szakképzett munkaerő és a földterület rendelkezésre állása alapján ez a terület lett volna a legjobb választás, hiszen a Kaohsiung területén található üzemegység már most is 1500  munkavállalót foglalkoztat közvetlenül, plusz még 500-at közvetett módon. A fiaskó miatt most úgy tűnik, a Baoshan város mellett található terület is szóba jöhet alternatívaként, ám az egyelőre nem világos, ott lesz-e elegendő földterület az építkezéshez.

Maga az 1,4 nm-es csíkszélesség kifejezetten fontos mérföldkő lesz a TSMC történetében, ugyanis a vállalat annál a gyártástechnológiánál használja először a 0,55-ös numerikus apertúrájú optikával rendelkező EUV (Extreme Ultraviolet) litográfiai gyártóeszközöket, amelyek jelentősen nagyobbak a jelenlegi 0,33 NA alapú megoldásoknál, így a meglévő üzemegységekbe esetenként nagyon nehéz lenne beszerelni őket, vagy éppen be sem férnének a kiszemelt helyre. Ezeket az újfajta ASML Twinscan EXE gyártóeszközöket a TSMC az N2 gyártástechnológia esetében még nem használja, az Intel viszont már beveti őket a 20A csíkszélesség esetében. Az 1,4 nm-es gyártástechnológiánál a TSMC-nek sem lesz más választása, mint az új eszközök bevetése, éppen ezért megfelelő üzemvázzal is készülniük kell ahhoz, hogy a gyártás a tervezettnek megfelelően megindulhasson.

A TSMC vezetése egyelőre nem kommentálta az értesüléseket, illetve azzal kapcsolatban sem osztottak meg hivatalos információkat, hogy az 1,4 nm-es csíkszélességgel dolgozó üzemegységek pontosan hol épülhetnek fel. Az új generációs gyártástechnológiával egyebek mellett várhatóan mobilokba szánt SoC egységek, processzorok, illetve gamer videokártyák GPU-i is készülhetnek majd, igaz, konkrét modelleket még nem jelentettek be a gyártók.