Shop menü

BAJ VAN AZ INTEL 10 NM-ES GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJÁVAL

Az új menetrend alapján majd csak 2019 folyamán kezdődhet meg a tömegtermelés, ami aligha jó hír, hiszen már így is rengeteg a késés.
Víg Ferenc (J.o.k.e.r)
Víg Ferenc (J.o.k.e.r)
Baj van az Intel 10 nm-es gyártástechnológiájával

Az Intel 10 nm-es gyártástechnológiája már nagyon sok késést szenvedett el, mert a kihozatali arány nem érte el az elvárható szintet. Ezért az eredetileg 2015-re ígért gyártástechnológia debütálását először 2017-re halasztották, majd később 2018 második felére módosították az előrejelzést. Most azonban kiderült, baj van a gyártástechnológia bevezetése körül, így idén már biztosan nem, majd csak a következő év folyamán állhat szolgálatba. Az Intel elnök-vezérigazgatója szerint a Cannon Lake processzorokat már így is szállítja a vállalat egyes megrendelőinek, igaz, csak kis mennyiségben. A kihozatali arány a vártnál sokkal lassabb mértékben javul, ugyanis hibák merültek fel, amelyekre javítás is készült, ám ennek bevetése időbe telik – és magas volumenű gyártás mellett még nem is tesztelték.

A kényszerhelyzet miatt a 14 nm-es csíkszélesség 2014 óta folyamatosan használatban van, így most a negyedik vagy ötödik generációjánál tart – teljesítménye az évek során mintegy 70%-kal javult, de lassan már nem lesz hova javítani rajta. Brian Krzanich szerint alapvetően az a baj, hogy a 14 mn-es node-hoz képest a szokásos 2,4-szeres helyett 2,7-szeres mértékben növelték a sűrűséget, ami komoly nehézségeket okozott. Az iparági átlag általában 1,5-2-szeres sűrűség növelést hoz egy-egy node váltás alkalmával, így ezt az Intel eddig is túlteljesítette, most azonban túl nagy fába vágták a fejszét. Éppen ezért a 10 nm-ről 7 nm-re történő átállás alkalmával vissza is térnek a 2,4-szeres sűrűség növelésre.

Galéria megnyitása

A 10 nm-es gyártástechnológia most még a klasszikus fotolitográfia segítségével készül, de a 7 nm-es szinten már szerephez jut az EUV is. Jelenleg a tradicionális gyártástechnológia sajátosságai miatt többszörös mintázásra van szükség, amelynek során túl sok hibás lapka készül, ezért a kihozatali arány is alacsony, és így költséghatékony gyártásra sincs igazán mód, hiszen a selejtek veszteséget generálnak. A szakemberek már megtalálták, hol lehet javítani a folyamaton, ám a javítás kivitelezése sok időbe telik, ennek eredményeként majd csak a következő év folyamán indulhat meg a tömegtermelés – az még rejtély, hogy az év első vagy második felében.

Annak érdekében, hogy a befektetők is lássák, a vállalat komoly erőfeszítéseket tesz a probléma megoldására, sor került némi belső szerkezeti átalakításra. Ennek egyik eredménye, hogy a frissen felvett Jim Keller a szilícium mérnökség vezetőjeként irányíthatja a munkát. Az ismert és elismert iparági szakemberrel az Intel a heterogén dizájn felé mozdul el, ami segíthet a csíkszélesség-váltás során jelentkező kihívások mérséklésében. Ennek során különböző komponensek kerülhetnek egy tokozáson belülre, külön lapkákon, azaz az olyan kritikus komponenseket, amelyek kis csíkszélességre rosszul skálázódnak – például az analóg komponenseket –, leválaszthatják a modern gyártástechnológiával készülő lapkáról. A lapkán belül a korábban már emlegetett EMIB technológia biztosíthat kapcsolatot, ami a Kaby Lake-G processzorokból már ismerős lehet.

Az átalakítások és az új szakemberek hatásai sajnos inkább csak hosszabb távon lesznek érezhetőek, azaz el kell telnie néhány évnek, mire az első igazi gyümölcsök beérnek.

Neked ajánljuk

    Tesztek

      Kapcsolódó cikkek

      Vissza az oldal tetejére